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半导体湿制程设备   您现在的位置:华林科纳>>半导体湿制程设备
 
 

   

 
产品信息:
1)主要适用于各种纳料材料、半导体制造过程中Photo、DIFF、WET/Etch、Eglass、Nickel等工序对2~12吋硅片的处理; 
2)主要工艺:根据客户需求定制,利用HF/HNO3/HCL / H3PO4/H2SO4/ SC1/SC2/H2SO4/NMP/BOE等药液,结合超声、抛动、循环过滤、加热、机械传送、自动配液、补液等功能,有效去除硅片上的金属离子、颗粒、胶等粘污,使之达到理想效果; 
3)控制方式:手动、半自动、全自动; 
4)材质:根据客户及工艺需求选用,可选PP、PVC、PVDF、PTFE、石英、SUS等材质;

 
优势及特性:
模块化设计;根据您的工艺及需求,为您提供特别的方案设计;
根据客户的预算定制;
最优的清洗处理工艺方案;
性价比高;
很多模块供选;
人性化操作界面;

非标类产品,根据您的具体需求欢迎详细咨询!4008768096

       砷化镓是一种感光性能比当前广泛使用的硅更优良的材料。理论上他将接收到的阳光40%的转化为电能,转化率约是硅的2倍,因此卫星和太空飞船等多采用砷化镓作为太阳能电磁板的材料。然而,超声波清洗器传统的砷化镓晶片制造技术每次只能生成一层晶片,成本居高不下,限制了砷化镓的广泛应用。

       砷化镓晶片在清洗工艺上的要求,是希望能够达到对晶片表面上残留的镓氧化物、砷氧化物和一些对后续工艺有害的金属、污垢、油污、杂质、蜡点、尘埃、脏点等。

       在清洗上存在的难题,可以采用超声波清洗机能够达到理想的清洗效果。


 
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